矽光子封裝

高精度共晶貼片設備

HP-EB3300
特點
支援多晶片與倒裝共晶貼合(含混合膠工藝)
高回應加熱模組,具多段 PID 與預測控制
位移、溫度、壓力曲線即時顯示
雙焊台並行作業,大幅提升產能
氣浮式貼裝平台,確保長期精度穩定
可旋轉點膠系統與自適應吸嘴設計

描述

HP-EB3300 是一款針對光電與半導體封裝應用的高精度雷射共晶貼合設備。系統具備雙焊台並行結構,支援單晶片、倒裝晶片及多晶片共晶封裝工藝。內建高靈敏溫度感測與多段 PID 控制,可即時監控位移、溫度與壓力曲線。貼裝平台採氣浮運動結構,確保長期精度穩定。
規格表
貼裝方式 特徵面朝上的高精度貼裝(選項:特徵面朝下的高精度貼裝)
貼裝工藝 共晶貼裝工藝、銀膠貼裝工藝
產品應用
COC、COS
貼裝精度 ±1 μm(標準晶片);±3 μm(依據具體應用)
XY-運動(上下料運動平台) 行程:550 mm × 400 mm;重複定位精度:2.0 μm
XY-運動(貼裝軸運動平台) 行程:250 mm × 100 mm;重複定位精度:0.5 μm
旋轉軸 行程:0° – 200°;重複定位精度:0.036°
貼裝壓力
10 – 200 g(10 – 2000 g 可選)
產能 25 s – 32 s(依據具體應用)
貼裝區域 13.0 mm × 13.0 mm
晶片 尺寸 最小:0.15 mm × 0.2 mm;最大:3.0 mm × 8.0 mm
供料方式
2 × “Gel-pak” 與 8 吋 Wafer ring
基板 尺寸
最小:0.3 mm × 0.3 mm;最大:12.0 mm × 12.0 mm
供料方式
2 × “Gel-pak” 與 8 吋 Wafer ring
重量
約 2000 kg
環境溫度 室溫:22 °C ± 2 °C
濕度
50 % ± 5 %
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